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一种声表面波滤波器的成型工艺

基本信息

申请号 CN202010754883.0 申请日 -
公开（公告）号 CN112003582A 公开（公告）日 2020-11-27
申请公布号 CN112003582A 申请公布日 2020-11-27
分类号 H03H9/145(2006.01)I 分类 基本电子电路;
发明人 黄佳 申请（专利权）人 江苏晋誉达半导体股份有限公司
代理机构 苏州金项专利代理事务所（普通合伙） 代理人 江苏晋誉达半导体股份有限公司
地址 215600江苏省苏州市张家港经济技术开发区福新路2号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种声表面波滤波器的成型工艺，包括以下步骤：S1、在半导体基片的上表面沉积形成金属膜层；S2、在金属膜层的上表面形成光刻胶并前烘处理；S3、利用掩膜对光刻胶进行曝光；S4、对光刻胶显影形成与器件图像相同的光刻胶图形；S5、对产品进行后烘处理；S6、利用氧气和四氟甲烷在等离子体环境下对光刻胶图形的侧壁底部的流胶进行微刻蚀；S7、利用干法刻蚀工艺刻蚀金属膜层后形成与光刻胶图形相同的金属膜图形；S8、去除金属膜上表面光刻胶得到滤波器器件；S9、利用离子风机对滤波器器件表面进行吹扫。该成型工艺可以对流胶进行微刻蚀，从而生产出线条符合设计版图要求的声表面波滤波器。