一种光刻机自润滑履带结构
基本信息
| 申请号 | CN202021262395.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212083893U | 公开（公告）日 | 2020-12-04 |
| 申请公布号 | CN212083893U | 申请公布日 | 2020-12-04 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 李俊毅;姚恒裕;陈舜钦;李雅瑜 | 申请（专利权）人 | 福建安芯半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 泉州市兴博知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 福建安芯半导体科技有限公司 |
| 地址 | 362300福建省泉州市南安市石井镇院前村2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种光刻机自润滑履带结构，其结构包括箱体、光刻机、集成电路、履带、主动轮、负重轮、工作台和激光机；箱体的顶端一侧内固定安装有光刻机，箱体内设有集成电路，光刻机顶端设有激光机，箱体一侧固定安装主动轮和负重轮，履带一端与主动轮连接，一端与负重轮连接，履带由若干链节组成，链节表面设有链板形成环形带状，链节内部穿插销轴，销轴两端设有滚轮，托辊内设有自润滑轴承座，自润滑轴承座一端设有端座，端座设有转轴贯穿于托辊内部，转轴设有有外密封圈与自润滑轴承座间隙配合，转轴设有自润滑轴承与外密封圈间隙配合并与内密封圈间隙配合，本实用新型具有对光刻机履带进行自润滑的有益效果。 |
