R‑T‑B系烧结磁体的制造方法
基本信息
申请号 | CN201480046365.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN105474337B | 公开(公告)日 | 2017-12-08 |
申请公布号 | CN105474337B | 申请公布日 | 2017-12-08 |
分类号 | H01F41/02(2006.01)I;B22F3/00(2006.01)I;B22F3/24(2006.01)I;C21D6/00(2006.01)I;C22C33/02(2006.01)I;C22C38/00(2006.01)I;H01F1/057(2006.01)I;H01F1/08(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 山方亮一;石井伦太郎;国吉太;佐藤铁兵 | 申请(专利权)人 | 博迈立铖科环磁材(南通)有限公司 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 蒋亭 |
地址 | 日本国东京都 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种磁体的制造方法,包括:磁体的准备工序,其准备如下磁体:用式uRwBxGayCuzAlqM余量T表示,RH为5%以下,0.20≤x≤0.70、0.07≤y≤0.2、0.05≤z≤0.5、0≤q≤0.1,在0.40≤x≤0.70时,v、w满足:50w‑18.5≤v≤50w‑14、‑12.5w+38.75≤v≤‑62.5w+86.125,在0.20≤x<0.40时,v、w:50w‑18.5≤v≤50w‑15.5、‑12.5w+39.125≤v≤‑62.5w+86.125,x:‑(62.5w+v‑81.625)/15+0.5≤x≤‑(62.5w+v‑81.625)/15+0.8;高温热处理工序,其将磁体加热到730℃以上且1020℃以下后以20℃/分钟以上冷却到300℃;以及加热到440℃以上且550℃以下的低温热处理工序。 |
