一种基于纳米线交叉互联的纳米线器件制备方法
基本信息
申请号 | CN201110144804.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN102259833B | 公开(公告)日 | 2014-11-05 |
申请公布号 | CN102259833B | 申请公布日 | 2014-11-05 |
分类号 | H01L21/20(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 黄辉;渠波 | 申请(专利权)人 | 深圳感圣科技有限公司 |
代理机构 | 北京金之桥知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄辉;渠波 |
地址 | 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号理工大学创新园大厦A328 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种基于纳米线交叉互联的纳米线器件制备方法。本发明的特征是:在半导体衬底的顶层薄层上通过刻蚀形成台面结构,以衬底表面作为基底生长具有“芯-包层”器件结构的纳米线,纳米线的包层与台面侧壁的电连接通过后续生长的纳米线实现;其中后续生长的纳米线,是以台面的侧壁或以“芯-包层”纳米线的侧壁作为生长的基底,侧向生长从而实现纳米线器件的包层与台面侧壁之间的电连接。该方法无需采用精细昂贵的电子束光刻工艺、也无需移动和操控纳米线,具有工艺简单、适合规模化制备的特点。 |
