一种掩膜版制作工艺
基本信息
| 申请号 | CN201811250051.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109407462A | 公开（公告）日 | 2019-03-01 |
| 申请公布号 | CN109407462A | 申请公布日 | 2019-03-01 |
| 分类号 | G03F1/68 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 郑跃勇;刘斌 | 申请（专利权）人 | 宁波微迅新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 宁波市鄞州甬致专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 宁波微迅新材料科技有限公司 |
| 地址 | 315000 浙江省宁波市江北区姜湖路219号3幢3楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种掩膜版制作工艺，包括如下步骤：S1、涂胶：提供一光学高分子PC复合板材，在所述光学高分子PC复合板材表面旋涂抗反射中性密着层，在所述抗反射中性密着层上旋涂中性UV光刻胶；S2、光刻：通过光刻直写掩膜机对中性UV光刻胶进行激光曝光；S3、显影：将光刻后的光学高分子PC复合板材置于一显影槽进行浸泡显影，所述显影槽内设有显影液；S4、坚膜。本发明采用光学高分子PC复合板材来制作掩膜版相比于传统的玻璃制作，大大降低了其制作的周期。 |
