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一种UV模具版光刻制作工艺

基本信息

申请号	CN201811252625.1	申请日	-
公开（公告）号	CN109521641A	公开（公告）日	2019-03-26
申请公布号	CN109521641A	申请公布日	2019-03-26
分类号	G03F1/60（2012.01）I; G03F1/62（2012.01）I	分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
发明人	郑跃勇; 刘斌	申请（专利权）人	宁波微迅新材料科技有限公司
代理机构	宁波市鄞州甬致专利代理事务所（普通合伙）	代理人	宁波微迅新材料科技有限公司
地址	315000 浙江省宁波市江北区姜湖路219号3幢3楼
法律状态	-

摘要

本发明公开了一种UV模具版光刻制作工艺，包括如下步骤：S1、提供一掩膜版，掩膜版为三层结构，包括上层光学高分子PC复合板材、下层中性UV光刻胶和将其两者粘接在一起的中间第一密着层；光刻胶通过光刻曝光形成纳米图纹；S2、提供一UV母模，母模为三层结构，包括上层中性UV固体胶、下层PC板材和将其两者粘接在一起的中间第二密着层；S3、将掩膜版放置于UV母模上，通过EVA紫外直射在光学高分子PC复合板材上对中性UV固体胶进行光刻，形成阴影区；S4、取出UV母模，对UV母模进行显影脱水；S5、坚膜。本发明采用PC板材来作为模具版，其生产成本大大降低；利用光学高分子PC板材、第一密着层和UV光刻胶来制作掩膜版，大大降低制作周期，更佳方便。