一种多弧离子镀设备的电弧靶的位置结构
基本信息
| 申请号 | CN201410624933.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104372303B | 公开（公告）日 | 2017-01-18 |
| 申请公布号 | CN104372303B | 申请公布日 | 2017-01-18 |
| 分类号 | C23C14/46(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李功伟;张波;吕莹 | 申请（专利权）人 | 仪征双环设备制造有限公司 |
| 代理机构 | 扬州市锦江专利事务所 | 代理人 | 仪征双环设备制造有限公司;仪征亚新科双环活塞环有限公司 |
| 地址 | 211400 江苏省扬州市仪征市扬子东路94号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种多弧离子镀设备的电弧靶的位置结构，涉及离子镀膜设备技术领域。本发明包括真空腔体，在真空腔体的中心设置工件架，在工件架四周、于真空腔体每侧的壁面上分别依次间隔设置第一电弧靶和第二电弧靶；第一电弧靶包括若干个由上至下均布的单一金属靶材；第二电弧靶包括若干个由上至下均布的多元元素靶材；每相邻的第一电弧靶与第二电弧靶上的单一金属靶材和多元元素靶材之间分别呈螺旋布置；全数的单一金属靶材和全数的多元元素靶材在高度方向上由上至下分别间隔布置且之间距离相等。本发明同一炉次制备出多层结构的PVD硬质镀层，且制备出的PVD镀层的元素含量基本一致，厚度均匀性和镀层成分均匀性得到了保障。 |
