一种制备梯度薄膜的真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202021417217.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213013064U | 公开（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申请公布号 | CN213013064U | 申请公布日 | 2021-04-20 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郭鸿杰;冯秋洁 | 申请（专利权）人 | 宁波星河材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
| 地址 | 315000浙江省宁波市宁波高新区宁波新材料创新中心东区1幢1号10-4-1 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型提供了一种制备梯度薄膜的真空镀膜装置，包括真空腔体，以真空腔体底面为XY平面，XY平面方向，过基片中心的直线与基片边缘交点为线段一，过坩埚顶面中心直线与坩埚顶面边缘的交点为线段二，使线段一与线段二相交于旋转基片托架与热蒸发装置之间，所述掩膜板远离真空腔体内壁的侧面过线段一与线段二的交点。本实用新型通过使掩膜板在特定地交点位置，通过结合基片旋转实现了在基片表面梯度薄膜的制备，且所述制备梯度薄膜的真空镀膜装置结构简单，便于本领域技术人员进行操控。 |
