一种便于更换坩埚的高通量薄膜制备装置
基本信息
| 申请号 | CN202120670814.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215481225U | 公开（公告）日 | 2022-01-11 |
| 申请公布号 | CN215481225U | 申请公布日 | 2022-01-11 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郭鸿杰;杨露明;冯秋洁 | 申请（专利权）人 | 宁波星河材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
| 地址 | 315000浙江省宁波市宁波高新区宁波新材料创新中心东区1幢1号10-4-1 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种便于更换坩埚的高通量薄膜制备装置，包括蒸发腔与存储腔；所述蒸发腔通过软连接管路与存储腔连通；所述蒸发腔与存储腔的连通管路设置有截止件；所述蒸发腔内设置有蒸发源以及用于放置坩埚的凹槽；所述存储腔内设置有坩埚存储架以及机械手；所述机械手用于坩埚在凹槽以及坩埚存储架之间的运输；所述坩埚为圆台状坩埚。本实用新型通过存储腔的设置，实现在真空环境下对坩埚进行更换，从而实现多种材料的交替镀膜，有利于实现多种材料对同一基片的真空镀膜，且能够完全避免材料的交叉污染问题。 |
