一种高通量分立掩膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201910727545.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112342494A | 公开（公告）日 | 2021-02-09 |
| 申请公布号 | CN112342494A | 申请公布日 | 2021-02-09 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 余应明;郭鸿杰;鲁森钱 | 申请（专利权）人 | 宁波星河材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海一平知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐迅;唐雪娇 |
| 地址 | 315000浙江省宁波市宁波高新区宁波新材料创新中心东区1幢1号10-4-1 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及高通量组合材料制备系统领域，公开了一种高通量分立掩膜装置。该高通量分立掩膜装置包括：基片托架，用于放置基片，所述基片托架通过基片托架升降电机和基片托架旋转电机控制升降和旋转；掩膜机械臂，所述掩膜机械臂通过掩膜机械臂旋转电机控制旋转；掩膜支架，用于放置掩膜片，所述掩膜支架通过掩膜支架升降电机控制升降；所述基片托架，掩膜机械臂和掩膜支架依次置于一个真空腔体内，所述掩膜机械臂在掩膜支架和基片托架之间转动取放掩膜。本发明通过掩膜机械臂将原多工位精确定位转化为双工位精确定位，实现精密定位，大大减少了真空腔体尺寸。 |
