下电极底座装置及真空镀膜腔系统
基本信息
| 申请号 | CN202022807671.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214327880U | 公开（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申请公布号 | CN214327880U | 申请公布日 | 2021-10-01 |
| 分类号 | C23C16/50（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/46（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 杨宝海;杨娜;潘家永;许伟伟;宋玉超;李轶军;李翔;李敦信;李义升 | 申请（专利权）人 | 营口金辰机械股份有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 | 代理人 | 周涛 |
| 地址 | 115000辽宁省营口市沿海产业基地新港大街95号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 下电极底座装置及真空镀膜腔系统属于太阳能电池设备技术领域，尤其涉及一种用于制造异质结太阳能电池的PECVD下电极底座装置及真空镀膜系统。本实用新型提供的一种高效率、高精准、低成本的用于异质结PECVD设备的下电极底座装置及真空镀膜腔系统。本实用新型包括的用于异质结PECVD设备的下电极底座装置，包括固定横梁，其特征在于：固定横梁上通过支脚设置有固定的下电极载片板，下电极载片板下方设置有下电极托盘组件，下电极托盘组件下方设置有升降系统。 |
