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一种微波旋磁铁氧体加工用表面抛光装置

基本信息

申请号 CN202120458586.1 申请日 -
公开（公告）号 CN214980108U 公开（公告）日 2021-12-03
申请公布号 CN214980108U 申请公布日 2021-12-03
分类号 B24B29/02（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I;B24B47/12（2006.01）I;B24B41/02（2006.01）I 分类 磨削；抛光;
发明人 龚则明;黄云霞;钟进科 申请（专利权）人 南京彼奥电子科技有限公司
代理机构 南京禾易知识产权代理有限公司 代理人 王彩君
地址 210000江苏省南京市经济技术开发区兴联路6号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种微波旋磁铁氧体加工用表面抛光装置，涉及微波旋磁铁氧体加工技术领域，为解决现有的微波旋磁铁氧体在进行抛光加工时工作人员无法根据实际情况对微波旋磁铁氧体进行适当的转面调节，导致抛光加工效果欠佳的问题。所述加工台的上端设置有两个抛光机座，所述抛光机座的内部空槽中设置有抛光砂轮，两个所述抛光机座之间设置有底撑板和顶撑板，所述底撑板和顶撑板的两端均设置有连接杆，所述连接杆的一端设置有限位座，两个所述抛光砂轮之间设置有微波旋磁铁氧体，所述微波旋磁铁氧体内部的通孔中安装有载物杆，所述载物杆的一端设置有握把。