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一种带宽可控的光纤光栅刻写方法及装置

基本信息

申请号 CN201310228540.0 申请日 -
公开（公告）号 CN103308977B 公开（公告）日 2016-08-10
申请公布号 CN103308977B 申请公布日 2016-08-10
分类号 G02B6/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 分类 光学;
发明人 刘伟平;叶晓平;蒋云钟;苗圯;熊松松 申请（专利权）人 北京品傲光电科技有限公司
代理机构 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人 北京品傲光电科技有限公司
地址 100176 北京市大兴区经济技术开发区科创十四街20号院12号楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种带宽可控的光纤光栅刻写方法及装置，其中，该方法包括：对光纤进行载氢处理，并去除其涂覆层；对激光发射器发射的预定波长的激光光束进行整形处理，并根据整形后的激光数据调节去除涂覆层后的该光纤的曝光区域；将整形处理的激光聚焦后经过相位掩膜板，对该光纤的曝光区域进行刻写，获得光纤光栅；上述方法可通过对应的激光发射器、曝光区域调节模块、柱面透镜与相位掩膜板实现。本发明公开的方法及装置所刻写的光纤光栅带宽可不受限于刻写紫外激光光斑尺寸和相位模板的啁啾度，有效的减少了制作成本；且该方法刻写的效率较高，重复性较强。