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一种带宽可控的光纤光栅刻写装置

基本信息

申请号	CN201320332039.4	申请日	-
公开（公告）号	CN203275699U	公开（公告）日	2013-11-06
申请公布号	CN203275699U	申请公布日	2013-11-06
分类号	G02B6/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I	分类	光学;
发明人	刘伟平;叶晓平;蒋云钟;苗圯;熊松松	申请（专利权）人	北京品傲光电科技有限公司
代理机构	北京凯特来知识产权代理有限公司	代理人	北京品傲光电科技有限公司
地址	100176 北京市大兴区经济技术开发区科创十四街20号院12号楼
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了一种带宽可控的光纤光栅刻写装置，该装置包括：依次排列的光束整形模块（108）、柱面透镜（107）、相位掩膜板（106）以及设置于所述光束整形模块（108）上方的反射镜（112）和激光发射器（113）；其中，所述光束整形（108）包括：光束分析仪（116）、微电机调谐光阑（117）、转动台（110）与电位移台（111）；所述转动台（110）置于所述电位移台（111）上；所述光束分析仪（116）与微电机调谐光阑（117）顺次置于所述转动台（110）中。本实用新型公开装置所刻写的光纤光栅可保证刻写时的刻写激光光束质量最佳，并且其带宽不受刻写激光的光斑尺寸和相位模板的啁啾度的限制；另外，该装置刻写的效率较高，重复性较强，可有效的减少了制作成本。