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一种溅射镀膜机的辅助冷却系统

基本信息

申请号	CN201921428056.1	申请日	-
公开（公告）号	CN210620927U	公开（公告）日	2020-05-26
申请公布号	CN210620927U	申请公布日	2020-05-26
分类号	C23C14/34;C23C14/54	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	唐志强;姜钧	申请（专利权）人	承德奥斯力特电子科技有限公司
代理机构	北京方韬法业专利代理事务所（普通合伙）	代理人	承德奥斯力特电子科技有限公司
地址	067000 河北省承德市平泉市平泉镇四合园村17组
法律状态	-

摘要

本实用新型公开了一种溅射镀膜机的辅助冷却系统，包括依次通过管道连接的储气罐、制冷装置、电磁阀、流量调节阀和溅射辅助室，溅射辅助室设置在溅射真空室内的基片运行轨道上，且至少位于第一溅射室的后方。还包括设置在溅射辅助室内的温度传感器，和与温度传感器、电磁阀和流量调节阀连接的控制器。辅助冷却系统包括两个以上的溅射辅助室，两个以上的溅射辅助室间隔设置在多个溅射室之间。本实用新型能实现对溅射镀膜过程中基片温度的降低，防止基片温度太高导致的氧化或变色现象的发生，提高溅射镀膜产品的外观。还通过多个溅射辅助室的设置，实现对需要多次溅射镀膜基片的多次冷却，能更好的控制溅射镀膜基片的温度，保证溅射镀膜基片的质量。