一种接近接触光刻机的底部吹氮真空复印曝光模式
基本信息
| 申请号 | CN202110161191.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112965342A | 公开（公告）日 | 2021-06-15 |
| 申请公布号 | CN112965342A | 申请公布日 | 2021-06-15 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 周占福;吕磊;毛善高 | 申请（专利权）人 | 三河建华高科有限责任公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 065201河北省廊坊市燕郊开发区工业大街北侧、凌仁羊绒公司西侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种接近接触光刻机的底部吹氮真空复印曝光模式，涉及接近接触式光刻机设备技术领域。该接近接触光刻机的底部吹氮真空复印曝光模式，包括吸盘，所述吸盘上设置有第一气路通道和第二气路通道，所述吸盘的上表面设置有环形槽，所述吸盘的上表面设置有晶圆，所述第一气路通道与环形槽相连通，所述吸盘的上方设置有掩膜版，所述吸盘上部的侧面设置有外圆斜环槽，所述外圆斜环槽的内部安装有密封圈，所述密封圈为薄型圆锥形。本发明，容易排出晶圆胶层面与掩膜版下表面之间的残留气体，不会产生气隙，曝光后在晶圆整片上获得一致性高、CD特征尺寸小的图形，同时，结构简单，性能稳定可靠，使用方便，应用范围广。 |
