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电子级多晶硅清洗方法

基本信息

申请号 CN202011290207.9 申请日 -
公开（公告）号 CN112390259B 公开（公告）日 2022-01-28
申请公布号 CN112390259B 申请公布日 2022-01-28
分类号 C01B33/037（2006.01）I;C30B33/10（2006.01）I 分类 无机化学;
发明人 吴锋;张天雨;孙江桥 申请（专利权）人 新津腾中筑路机械有限公司
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 周慧云
地址 221004江苏省徐州市经济技术开发区杨山路66号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了电子级多晶硅清洗方法。该电子级多晶硅清洗方法包括：利用第一至第八清洗液一次对硅块进行清洗处理。第一清洗液为NaOH溶液或KOH溶液；第二清洗液为HNO3、HF、水的混合液；第三清洗液为HNO3、HF、水的混合液，且相对于第二清洗液，第三清洗液中HNO3的浓度较低，HNO3与HF的比例较高；第四清洗液为NH4OH溶液；第五清洗液为HF溶液；第六清洗液为H2O2溶液；第七清洗液为HF溶液，且相对于第五清洗液，第七清洗液中的HF浓度较低；第八清洗液为水。该电子级多晶硅清洗方法可显著提高硅块的清洗效果，并使硅块整体更加圆润，以便于下游加工。