卷对卷立式磁控镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201310196343.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103290385B | 公开（公告）日 | 2015-07-22 |
| 申请公布号 | CN103290385B | 申请公布日 | 2015-07-22 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 谢建军 | 申请（专利权）人 | 深圳市生波尔机电设备有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 | 代理人 | 深圳市生波尔机电设备有限公司;广东生波尔光电技术有限公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市坪山新区深圳出口加工区2号路达新小区A栋厂房第一层西 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 发明公开了一种卷对卷立式磁控镀膜装置，包括：镀膜室，镀膜室的一端连接设有一放卷室，放卷室内设有辊轴为竖直方向设置的放卷辊和导向辊；镀膜室的另一端连接设有一收卷室，收卷室设有辊轴为竖直方向设置的收卷辊和第一导向辊；镀膜室的侧壁上设置有磁控溅射靶，磁控溅射靶的靶面为竖直方向设置，并与柔性基片所在面平行；放卷室与镀膜室、镀膜室与收卷室间分别设有通过柔性基片的狭缝；放卷室、镀膜室、收卷室分别设有独立的抽气系统。本发明所提供的装置，可防止杂质气体污染镀膜室，以保证膜层不受杂质污染；同时可防止室体内产生的细小粉尘及颗粒落入柔性基片表面和磁控溅射靶的靶面上，避免了膜层出现针孔现象，保证了膜层的质量。 |
