一种真空镀膜装置

基本信息

申请号 CN202022553967.6 申请日 -
公开(公告)号 CN213507180U 公开(公告)日 2021-06-22
申请公布号 CN213507180U 申请公布日 2021-06-22
分类号 C23C14/50(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 李健;孙宏宇;邓天容 申请(专利权)人 江西华派光电科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 341800江西省赣州市全南县工业园二区
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,公开了一种真空镀膜装置,包括真空镀膜腔和镀膜腔盖,真空镀膜腔底部设有蒸发源,所述镀膜腔盖位于真空镀膜腔上方,镀膜腔盖底部安装有基片载架夹持装置,镀膜腔盖的左侧固定在支撑板上,支撑板的下方连接着第一升降机构,支撑板的上方设有电机支架,电机支架上安装着转动电机,转动电机输出轴连接到镀膜腔盖。本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜装置,用于提高真空镀膜效率,节约人力成本。