一种真空镀膜用基片支架
基本信息
| 申请号 | CN202022559118.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213507182U | 公开（公告）日 | 2021-06-22 |
| 申请公布号 | CN213507182U | 申请公布日 | 2021-06-22 |
| 分类号 | C23C14/50（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李健;孙宏宇;邓天容 | 申请（专利权）人 | 江西华派光电科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 341800江西省赣州市全南县工业园二区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域，公开了一种真空镀膜用基片支架，包括左右两侧的两个支架，支架的前后两侧通过活动横梁相连接，支架的前后两侧开设有T型槽，T型槽内设有螺母，活动横梁的两端通过固定螺钉连接到螺母，支架的顶部前后两端安装有固定横梁，固定横梁之间安装有若干挂板，挂板上安装有基片载板，基片载板可绕挂板转动，基片载板的另一端安装有限位轴，限位轴的两端靠在活动横梁上。本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜用基片支架，用于固定基片并实现对基片倾斜角度进行灵活调节，其结构简单、成本低、易安装。 |
