在基材表面制备微纳结构的方法和表面具有微纳结构的基材及其应用

基本信息

申请号 CN202111195108.7 申请日 -
公开(公告)号 CN114100998A 公开(公告)日 2022-03-01
申请公布号 CN114100998A 申请公布日 2022-03-01
分类号 B05D5/00(2006.01)I;B05D5/08(2006.01)I;B05D3/06(2006.01)I;B05D3/14(2006.01)I 分类 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
发明人 李可峰 申请(专利权)人 维达力科技股份有限公司
代理机构 华进联合专利商标代理有限公司 代理人 黎金娣
地址 437300湖北省咸宁市赤壁市经济开发区中伙光谷产业园
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种在基材表面制备微纳结构的方法和表面具有微纳结构的基材及其应用。包括如下步骤:提供基材和具有微纳米尺寸的三维立体结构的微纳纹理模板;在所述基材上施加转印UV胶;通过UV转印将所述微纳纹理模板施加在所述转印UV胶上,再通过UV固化制备过渡胶层,移除所述微纳纹理模板,制备中间体;采用蚀刻等离子源对所述中间体进行等离子蚀刻,以去除所述基材表面需要蚀刻区域的过渡胶层,并在所述基材的表面蚀刻出具有微纳米尺寸的三维立体结构。该方法操作简易、微纳结构形貌可控、低成本、长效、可大批量应用的优点。另外,还可以减少曝光显影的使用,节省设备成本和制作成本。