高透过、低反射的功能部件及其制备方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202111195124.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114114727A | 公开（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申请公布号 | CN114114727A | 申请公布日 | 2022-03-01 |
| 分类号 | G02F1/13（2006.01）I;C03C15/00（2006.01）I;C03C21/00（2006.01）I;C03C17/34（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 李可峰 | 申请（专利权）人 | 维达力科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 黎金娣 |
| 地址 | 437300湖北省咸宁市赤壁市经济开发区中伙光谷产业园 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种高透过、低反射的功能部件及其制备方法应用。该功能部件的制备方法包括如下步骤：提供基材和具有微纳米尺寸的三维立体结构的微纳纹理模板；在基材上施加转印UV胶；将微纳纹理模板施加在转印UV胶上，再通过UV固化制备过渡胶层，移除微纳纹理模板，制备中间体；采用蚀刻等离子源对中间体进行等离子蚀刻，以去除基材表面需要蚀刻区域的过渡胶层，并在基材的表面蚀刻出微纳结构；采用射率为1.0～2.0的材料在具有微纳米尺寸的三维立体结构的基材的表面上制备减反射增透镀层。该方法具有操作简易、微纳结构形貌可控、低成本、长效、可大批量应用的优点，制得的功能部件具有高透过、低反射的优势，具有广阔的应用前景。 |
