用于解决干法蚀刻边缘效应的盖板及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201410126842.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103887215A | 公开（公告）日 | 2014-06-25 |
| 申请公布号 | CN103887215A | 申请公布日 | 2014-06-25 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;B23P15/00(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 陈起伟;魏臻;孙智江;施荣华 | 申请（专利权）人 | 海迪芯半导体（南通）有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 215131 江苏省苏州市相城区经济开发区漕湖产业园朝阳工业坊 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于解决干法蚀刻边缘效应的盖板，用于在图形化蓝宝石衬底的蚀刻过程中形成蚀刻图案，包括由金属材料制成的遮挡盖板和覆盖于所述的遮挡盖板上表面的耐腐蚀层，所述的遮挡盖板上的预定位置制作有掩膜图形。由于采用了以上技术方案，本发明通过使用具有良好导电特性的金属材料作为盖板的主体，并且为了防止金属材质在等离子体氛围中的过度消耗，在以金属为主体材料的基础上，在金属表面喷涂一薄层陶瓷材料，以增加盖板的耐蚀性。 |
