一种SiCMOSFET器件结构

基本信息

申请号 CN202110964351.4 申请日 -
公开(公告)号 CN113707626A 公开(公告)日 2021-11-26
申请公布号 CN113707626A 申请公布日 2021-11-26
分类号 H01L23/48(2006.01)I;H01L23/367(2006.01)I;H01L23/373(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/16(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 陈利;陈彬 申请(专利权)人 福建晋润半导体技术有限公司
代理机构 深圳至诚化育知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 刘英
地址 361011福建省厦门市湖里区万翔国际商务中心1694号2#南楼705单元
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及半导体器件技术领域,具体为一种SiCMOSFET器件结构,包括封装壳体、引脚、凹槽、镀银层、散热块、散热鳍、耳板、导热膜、硅胶片、导热柱和镂空槽。本发明结构巧妙,装置的引脚上开有凹槽,引脚上开有镂空槽,且镂空槽位于凹槽内,用镊子夹持住引脚远离封装壳体靠近凹槽处,然后弯折引脚,在凹槽和镂空槽的作用下,大大降低了引脚折弯处的结构强度,此时可轻松的将引脚由凹槽处折弯,不仅方便了引脚的折弯,同时限定了装置的折弯位置,避免了装置因引脚的硬度高,引脚折弯困难,以及折弯时因折弯位置不对导致多折或者少折情况的发生,有利于装置的安装。