一种适用于大尺寸及超薄玻璃的镀膜工艺及设备
基本信息
| 申请号 | CN201210152183.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103422061B | 公开（公告）日 | 2016-01-27 |
| 申请公布号 | CN103422061B | 申请公布日 | 2016-01-27 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C03C17/00(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 姜翠宁 | 申请（专利权）人 | 深圳市正星光电技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518000 广东省深圳市宝安区福永街道大洋路南侧2栋一、二楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种适用于大尺寸及超薄玻璃的镀膜工艺及镀膜设备，该镀膜工艺采取设备双面设置靶位，但是双面可设置不同类型不同数量的靶位，通过选择合适的倾斜角度，设备两面均可做倾斜设计，其倾斜方式是以垂直于水平面的腔体的中心轴线为中心，设备的关键部位分别向两侧倾斜相同的角度，其关键部件为阴极靶位和承载玻璃的基片架，阴极靶位与基片架上装载玻璃的框架倾斜同样的角度，这样保证玻璃基板在镀膜时与靶面平行，靶基距一致，这种设计适合大尺寸超薄玻璃，产量高、设备双面可同时完成不同类型产品，解决了现有技术设备无法高质量的生产大尺寸超薄玻璃、含盖产品范围窄，对于特殊产品效率低、不利于产品拓展的弊端。 |
