一种可同时实现玻璃基板单、双面镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201210152181.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103422059B | 公开（公告）日 | 2016-01-27 |
| 申请公布号 | CN103422059B | 申请公布日 | 2016-01-27 |
| 分类号 | C23C14/22(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 姜翠宁 | 申请（专利权）人 | 深圳市正星光电技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 231300 安徽省六安市舒城县杭埠镇经济开发区杭埠园区产投产业园D3幢（香樟大道与石兰路交叉口） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种可同时实现玻璃基板单、双面镀膜设备，该可同时实现玻璃基板单、双面镀膜设备由箱体、基片架、加热器、导杆、传动轮、上横梁、下横梁构成，所述加热器位于箱体两侧真空室壁上，没有靶位的地方均设有加热器，加热器的数量是常规设计的1.5倍，且加热器采用分段式，这样可以提高加热效率，而且可以分段控制温度，能够更好的保证玻璃受热均匀，最主要的是解决了现有技术无法完成基板两面同时镀膜的缺陷，降低了双面膜产品的生产成本尺寸，提高了生产效率和产品的良率，其设计思路具有领先地位。 |
