一种改善光刻胶与晶圆粘附性的方法
基本信息
| 申请号 | CN202110048723.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112698553A | 公开（公告）日 | 2021-04-23 |
| 申请公布号 | CN112698553A | 申请公布日 | 2021-04-23 |
| 分类号 | G03F7/38;G03F7/40;G03F7/30;G03F7/20;G03F7/16;H01L21/027 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 马阳阳;张东宏;李宝军 | 申请（专利权）人 | 陕西彩虹新材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京卓特专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 段宇 |
| 地址 | 712021 陕西省咸阳市秦都区彩虹二路 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种改善光刻胶与晶圆粘附性的方法，其特征在于：包括对超纯水清洗后晶圆进行预烘烤，对光刻胶样品进行水浴放置以及在涂覆光刻胶前，设定程序预先手动喷雾光刻胶对应的溶剂溶液，然后吸取一定量光刻胶对烘烤后的晶圆进行涂覆；对涂覆有光刻胶的晶圆进行曝光处理；对曝光后的晶圆进行曝光后烘烤；对曝光后烘烤的晶圆进行室温冷却处理；最后对晶圆进行显影。本发明提供的改善光刻胶与晶圆粘附性的方法中，首先对晶圆进行预烘烤，使得晶圆表面能由亲水变为疏水，增加光刻胶与晶圆的粘附性。 |
