真空吸附平台

基本信息

申请号 CN202121112809.5 申请日 -
公开(公告)号 CN215588829U 公开(公告)日 2022-01-21
申请公布号 CN215588829U 申请公布日 2022-01-21
分类号 B24B41/06(2012.01)I 分类 磨削;抛光;
发明人 吕金峰;潘灿彬;刘基;潘连兴 申请(专利权)人 万载南极光电子科技有限公司
代理机构 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 代理人 孔德丞
地址 336000江西省宜春市万载县工业园区光明路以东、望江路以西
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开一种真空吸附平台。所述真空吸附平台包括平台本体,所述平台本体设置有吸附面,所述吸附面设有多个吸附孔;多个所述吸附孔包括设置在所述吸附面的周边的第一吸附孔,以及设置于所述吸附面的中部的第二吸附孔。本实用新型的真空吸附平台,能够降低导光板被刮花的概率。