一种用于晶体管生产的真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN202022566625.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214088641U | 公开（公告）日 | 2021-08-31 |
| 申请公布号 | CN214088641U | 申请公布日 | 2021-08-31 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王丽娜 | 申请（专利权）人 | 浙江翠展微电子有限公司 |
| 代理机构 | 北京艾皮专利代理有限公司 | 代理人 | 冯铁惠 |
| 地址 | 314199浙江省嘉兴市嘉善县惠民街道滨江路6号2幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于晶体管生产领域，具体为一种用于晶体管生产的真空镀膜装置，包括真空机构、镀膜机构和用于带动晶体管转动的转动机构，所述真空机构包括真空箱、支脚、挡门、观察窗、把手，所述真空箱前部通过铰链连接有所述挡门，所述挡门前部安装有所述把手，所述挡门上且位于所述把手一侧嵌入有所述观察窗，所述真空箱顶部相连通有真空泵，所述真空箱底部设有所述支脚，所述镀膜机构包括输送管、喷管、连接环、连接杆、螺母，所述真空箱两侧贯穿有所述输送管，所述输送管朝向所述真空箱内部的一端相连通有所述喷管，所述喷管外侧设有所述连接环。本实用新型采用镀膜机构，从而可以方便的改变镀膜的角度以适应不同的使用情况。 |
