氧化镓晶片退火处理装置
基本信息
| 申请号 | CN202120458368.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214782265U | 公开（公告）日 | 2021-11-19 |
| 申请公布号 | CN214782265U | 申请公布日 | 2021-11-19 |
| 分类号 | C30B33/02（2006.01）I;C30B29/16（2006.01）I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 吴义凯;黄安平;田京生 | 申请（专利权）人 | 珠海经济特区方源有限公司 |
| 代理机构 | 深圳至诚化育知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 刘英 |
| 地址 | 519031广东省珠海市香洲区宝南路317号方源大厦四层401、402、403、404、405、407室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了氧化镓晶片退火处理装置，属于氧化镓晶片退火处理领域。氧化镓晶片退火处理装置，包括底座，限位杆侧壁连接有移动机构，移动机构包括驱动电机，驱动电机固定连接在限位杆侧壁，驱动电机输出端连接有连接杆，连接杆侧壁转动连接有第一转轴，第一转轴侧壁转动连接有连杆，连杆远离第一转轴的一端转动连接有第二转轴，第二转轴外壁转动连接有驱动块，驱动块侧壁连接有支撑圆盘，支撑圆盘底部连接有夹持机构，夹持机构加持端与晶片相配合；本实用新型通过夹持机构和移动机构相配，合实现夹取释放功能，可使夹持机构在夹取高度和夹取位置可进行调节，提高移动效率，可根据不同环境进行移动设定，减少移动时间，提高品控。 |
