流量可控的高活性硒或硫裂解气的产生装置
基本信息
| 申请号 | CN201720788079.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN207002837U | 公开（公告）日 | 2018-02-13 |
| 申请公布号 | CN207002837U | 申请公布日 | 2018-02-13 |
| 分类号 | C23C14/58;C23C14/06 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 孙云;李光旻;刘玮;林舒平;周志强;张毅 | 申请（专利权）人 | 安徽恒致铜铟镓硒技术有限公司 |
| 代理机构 | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张建宏;王玲霞 |
| 地址 | 233030 安徽省蚌埠市汤和路268号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 流量可控的高活性硒或硫裂解气的产生装置，包括蒸发器、裂解筒和节流片，蒸发器采用内加热式，利用热辐射器对硒或硫表面进行辐射加热，使固体硒或硫熔化成液态，并在5～10KPa的压强下蒸发出硒蒸汽或硫蒸汽，经过节流片上的节流孔进入裂解筒裂解为小分子硒或硫裂解气，用于制备硒化物半导体材料或硫化物半导体材料。本实用新型的产生装置能够将固态硒或硫转化为汽态，经高温热裂解获得高活性硒或硫裂解气，并可抵抗周边温度的影响，使裂解气流量得到有效控制，能为硒化或硫化系统或蒸发系统提供高活性硒或硫裂解气。 |
