流量可控的高活性硒或硫裂解气的产生装置及产生方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

流量可控的高活性硒或硫裂解气的产生装置及产生方法

基本信息

申请号	CN201710529241.9	申请日	-
公开（公告）号	CN107338421A	公开（公告）日	2017-11-10
申请公布号	CN107338421A	申请公布日	2017-11-10
分类号	C23C14/58(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	孙云;李光旻;刘玮;林舒平;周志强;张毅	申请（专利权）人	安徽恒致铜铟镓硒技术有限公司
代理机构	蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司	代理人	张建宏;王玲霞
地址	233030 安徽省蚌埠市汤和路268号
法律状态	-

摘要

流量可控的高活性硒或硫裂解气的产生装置及产生方法，其装置包括蒸发器、裂解筒和节流片，蒸发器采用内加热式，利用热辐射器对硒或硫表面进行辐射加热，使固体硒或硫熔化成液态，并在5～10KPa的压强下蒸发出硒蒸汽或硫蒸汽，经过节流片上的节流孔进入裂解筒裂解为小分子硒或硫裂解气，用于制备硒化物半导体材料或硫化物半导体材料。本发明的方法是在真空或高纯度惰性气体的气氛下，给蒸发器和裂解筒加热，使固体硒或硫转化成蒸汽，并经裂解筒裂解为小分子裂解气。本发明将固态硒或硫转化为汽态，经高温热裂解获得高活性硒或硫裂解气，并可抵抗周边温度的影响，使裂解气流量得到有效控制，能为硒化或硫化系统或蒸发系统提供高活性硒或硫裂解气。