一种用于MAX相二维材料的蚀刻装置
基本信息
| 申请号 | CN202022769556.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213583711U | 公开（公告）日 | 2021-06-29 |
| 申请公布号 | CN213583711U | 申请公布日 | 2021-06-29 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 董金勇;高燕凌;董峰 | 申请（专利权）人 | 中铭瓷（苏州）纳米粉体技术有限公司 |
| 代理机构 | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 朱振德 |
| 地址 | 215000江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区6幢204、206室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于MAX相二维材料的蚀刻装置，涉及到蚀刻技术领域，包括装置箱体，所述装置箱体内部固定设置有蚀刻池，所述装置箱体一侧固定设置有支架筒，所述支架筒内部套设有升降杆，所述升降杆顶端固定设置有密封升降台，所述密封升降台中部固定设置有固定安装槽，所述装置箱体顶部固定设置有蚀刻放置口，所述固定安装槽与蚀刻放置口竖直对应设置。本实用新型通过设置密封升降台，将材料板放置在夹紧垫板与活动夹板之间，调节螺杆转动，利用螺纹块带动活动块，进而使得活动台底部的活动夹板向夹紧垫板运动，将固定好的材料穿过蚀刻放置口放入蚀刻池中进行真空负压蚀刻加工，加工操作方便，工作效率高。 |
