一种硅片的清洗槽
基本信息
| 申请号 | CN201910748963.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112387692A | 公开（公告）日 | 2021-02-23 |
| 申请公布号 | CN112387692A | 申请公布日 | 2021-02-23 |
| 分类号 | B08B3/12(2006.01)I; | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 刘爱军;曹丙强;庄艳歆;周浪 | 申请（专利权）人 | 江苏金晖光伏有限公司 |
| 代理机构 | 扬州润中专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 张琳 |
| 地址 | 225600江苏省扬州市高邮市城南经济新区兴区路90号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片的清洗槽，涉及硅片生产技术领域，具体为一种硅片的清洗槽，包括槽体，所述槽体的顶部固定安装有超声波发生器，所述槽体的右侧固定连接有排液口，所述排液口的顶部固定安装有控制阀，所述槽体的内部固定连接有挡板，所述挡板的顶部放置有硅片放置板，所述硅片放置板的顶部设置有卡槽，所述硅片放置板顶部的右侧固定连接有侧板。该硅片的清洗槽，通过设置高压喷头使清洗液形成高压水流对硅片进行冲洗，能够有效地取出硅片表面的附着物，当冲洗的清洗漫过硅片的顶部时，通过超声波发生器产生的超声波使清洗液震动，对硅片进行二次的清洗，提高了硅片的清洗效率。 |
