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一种高亮度无色差镭射膜的制作方法

基本信息

申请号 CN202011275365.7 申请日 -
公开（公告）号 CN112080767A 公开（公告）日 2020-12-15
申请公布号 CN112080767A 申请公布日 2020-12-15
分类号 C25D1/00(2006.01)I 分类 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕;
发明人 黄昭利;李世威;邓莎;杨小利 申请（专利权）人 湖南和锐镭射科技有限公司
代理机构 长沙市护航专利代理事务所（特殊普通合伙） 代理人 谢新苗
地址 410100湖南省长沙市经济技术开发区南二路17号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明具体公开了一种高亮度无色差镭射膜的制作方法，所述方法包括以下步骤：S1、通过高亮度无色差的镭射母版对基板进行电铸，获取高亮度无色差的镭射工作版；S2、通过所述镭射工作版对厚度均匀且张力稳定的基膜进行涂布，并确保基膜表面的镭射涂料涂布均匀，得到涂布膜；S3、选用版辊、压辊和机台对涂布膜进行模压处理；S4、对步骤S3中经过模压处理后的涂布膜镀铝，并根据涂布膜的耐温调整镀铝的厚度，从而得到高亮度无色差的镭射膜。本发明中镭射膜的制作方法所生产的镭射工作版和镭射膜无色差、亮度高且厚度均匀，大大降低了后面工序中上色和调色的难度，能够满足高标准要求的客户，提升了公司的市场竞争力。