一种适用于光刻工艺铜制程的无氟酸性刻蚀液及配制方法
基本信息
| 申请号 | CN201910309436.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110105956A | 公开（公告）日 | 2019-08-09 |
| 申请公布号 | CN110105956A | 申请公布日 | 2019-08-09 |
| 分类号 | C09K13/04;C09K13/06;H01L21/306 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 李潇逸;邢攸美;方伟华;尹云舰;李欢;洪明卫 | 申请（专利权）人 | 杭州格林达电子材料股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京志霖恒远知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 杭州格林达电子材料股份有限公司 |
| 地址 | 311228 浙江省杭州市萧山区红十五路9936号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种适用于光刻工艺铜制程的无氟酸性刻蚀液及配制方法，其特征在于，包括1‑20％重量份的无机酸，5‑25％重量份的过氧化氢，0.1‑5％重量份的环状胺类化合物，0.1‑10％重量份的氨基酸类化合物，1‑5％重量份的无机磷酸盐类及剩余组分的纯水，上述各组分重量份总和为100％重量份。本发明所配制适用于光刻工艺铜制程的无氟酸性刻蚀液主要应用于厚度达到或以上的铜膜层刻蚀工艺，其刻蚀均匀性好、侧向刻蚀角度小、无金属离子残留、无铜膜层残留、无氟环境友好绿色环保。 |
