一种提升金属氧化物薄膜均匀性的磁控溅射腔体
基本信息
| 申请号 | CN202020319044.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212051630U | 公开（公告）日 | 2020-12-01 |
| 申请公布号 | CN212051630U | 申请公布日 | 2020-12-01 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 巨锦华;林晓东 | 申请（专利权）人 | 中科微机电技术（北京）有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100085北京市海淀区西三旗昌临813号A1号楼103室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种提升金属氧化物薄膜均匀性的磁控溅射腔体，包括腔体，安装在腔体上部的驱动装置、磁性件和靶材，置于腔体内的护板、基片和加热器，安装在腔体侧壁的低温泵；驱动装置和磁性件相连接，靶材置于磁性件的下方，基片通过基座压环安装在加热器上并置于护板围成的空间内，护板安装在靶材与加热器之间，还包括腔体混合进气装置、筛形分气装置和转轴，筛形分气装置安装在腔体内部，腔体的侧壁设置总进气口，腔体混合进气装置通过总进气口与筛形分气装置连通，转轴与加热器连接，用于带动加热器上的基片匀速旋转。本实用新型通过设置腔体混合进气装置、筛形分气装置和转轴，提高了气体分布均匀性和金属氧化物薄膜均匀性。 |
