具有旋转交换双工件台的光刻装置的曝光方法
基本信息
| 申请号 | CN202110067156.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112835271A | 公开（公告）日 | 2021-05-25 |
| 申请公布号 | CN112835271A | 申请公布日 | 2021-05-25 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 顾峥;伍强;李艳丽 | 申请（专利权）人 | 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司 |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 张磊;吴世华 |
| 地址 | 201800上海市嘉定区叶城路1288号6幢JT2216室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种具有旋转交换双工件台的光刻装置的曝光方法，所述光刻装置包括曝光单元，所述曝光单元包括测量工位和曝光工位，所述测量工位执行步骤包括第一测量步骤和第二测量步骤；所述曝光工位执行步骤包括第一曝光步骤和第二曝光步骤；其中，所述第一曝光步骤包括曝光前准备、所述第一或第二工件台的对准；所述第二曝光步骤包括对所述待处理晶圆执行曝光工艺；所述第一及第二工件台并行作业，同步执行所述第一测量步骤与所述第一曝光步骤；或，同步执行所述第二测量步骤与所述第二曝光步骤，从而提高曝光精度及优化产能瓶颈。 |
