一种光刻装置及曝光方法
基本信息
| 申请号 | CN202110067118.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112835269A | 公开（公告）日 | 2021-05-25 |
| 申请公布号 | CN112835269A | 申请公布日 | 2021-05-25 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 李艳丽;伍强 | 申请（专利权）人 | 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司 |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 吴世华;尹一凡 |
| 地址 | 201800上海市嘉定区叶城路1288号6幢JT2216室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻装置，包括对应分设于测量工位和曝光工位下方的两个短程台，所述两个短程台分别设于长程台的两端；通过所述长程台的水平旋转，实现两个短程台在所述测量工位和曝光工位之间的位置交换；所述长程台上固定非接触式电容传感器的一端，所述非接触式电容传感器的另一端分别固定在所述短程台上；根据非接触式电容传感器的电容值变化信息对短程台进行位置调整，确保旋转之后的短程台与长程台之间没有发生偏移。本发明中光刻装置可以确保旋转之后的短程台相对长程台的位置无偏差。 |
