具有多个外延反应腔的MOCVD系统及其操作方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

具有多个外延反应腔的MOCVD系统及其操作方法

基本信息

申请号	CN201010231273.9	申请日	-
公开（公告）号	CN102212877A	公开（公告）日	2011-10-12
申请公布号	CN102212877A	申请公布日	2011-10-12
分类号	C30B25/02(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I	分类	晶体生长〔3〕;
发明人	陈爱华;金小亮;孙仁君;张伟	申请（专利权）人	江苏中晟半导体设备有限公司
代理机构	上海信好专利代理事务所（普通合伙）	代理人	江苏中晟半导体设备有限公司
地址	213200 江苏省常州市金坛市金坛经济开发区华城路318号
法律状态	-

摘要

一种具有多个外延反应腔的MOCVD系统，用于对放置在托盘上的若干衬底基片进行外延反应，包含一设置有机械手的传输腔，以及与传输腔连接的若干中转站和等于或大于两个的外延反应腔，该多个外延反应腔内可同时对衬底基片进行外延反应，通过机械自动化操作，不需要打开外延反应腔盖，即能实现外延反应腔里托盘的取放，不仅提高了系统的产能，还节约了外延反应腔冷却和换盘操作的时间，提高了设备的生产利用率。由于多个外延反应腔共用同一套传输腔、机械手等，节省了另外一套或几套相应的设备，降低了其设置成本和运行费用，也节约了这部分设备的安装场地。由于中转站同时具有预处理腔功能，可根据生产要求实现对托盘的预冷和预热处理，进一步提高生产效率。