发光二极管外延结构的制备方法

基本信息

申请号 CN201811510723.0 申请日 -
公开(公告)号 CN109638129B 公开(公告)日 2021-04-27
申请公布号 CN109638129B 申请公布日 2021-04-27
分类号 H01L33/32;H01L33/02;H01L33/00 分类 基本电气元件;
发明人 郭丽彬;周长健;程斌 申请(专利权)人 合肥彩虹蓝光科技有限公司
代理机构 合肥和瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 王挺;魏玉娇
地址 315336 浙江省宁波市杭州湾新区玉海东路136号数字经济产业园B区14号楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种发光二极管外延结构的制备方法,所述方法包括,提供一衬底,其中所述衬底上设有第一电极;在所述衬底上形成N型半导体层;在所述N型半导体层上形成发光层;在所述发光层上形成P型半导体层;在所述P型半导体层上形成P型接触层;其中所述P型接触层的生长速率小于0.35um/h,且厚度小于等于并具有镁的掺杂浓度大于等于1.00E+20atoms/cm3。利用本发明,可有效改善器件冷热比性能,提高器件的光电效应,获得光电性能良好的发光二极管。