一种利用原子层沉积装置制备氟化石墨烯的方法

基本信息

申请号 CN201310056762.9 申请日 -
公开(公告)号 CN103086374B 公开(公告)日 2014-07-23
申请公布号 CN103086374B 申请公布日 2014-07-23
分类号 C01B31/04(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 分类 无机化学;
发明人 林时胜;董策舟 申请(专利权)人 杭州格蓝丰科技有限公司
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 代理人 杭州格蓝丰纳米科技有限公司;浙江大学
地址 310027 浙江省杭州市西湖区西溪路525号C楼428室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开的利用原子层沉积装置制备氟化石墨烯的方法,主要包括将石墨烯通过转移基底放置在原子层沉积装置的支撑架上,利用玻璃金属转换件内氟化剂的蒸发进入原子层沉积装置的腔体,并使得石墨烯吸附氟原子,实现氟化石墨烯的可控制备。该方法工艺流程完全可控,操作简单方便,特别适合于氟化石墨烯的大规模工业化生产,制备的氟化石墨烯在纳米电子器件、润滑材料、大容量锂电池等领域具有广泛的应用前景。