利用原子层沉积技术在SERS基底上制备氧化物表面的方法
基本信息
| 申请号 | CN201310031849.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103103494A | 公开（公告）日 | 2013-05-15 |
| 申请公布号 | CN103103494A | 申请公布日 | 2013-05-15 |
| 分类号 | C23C16/40(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李丰;潘革波;葛海雄 | 申请（专利权）人 | 上海帕壳实业有限公司 |
| 代理机构 | 南京知识律师事务所 | 代理人 | 汪旭东 |
| 地址 | 201400 上海市奉贤区南桥镇八字桥路1919号2幢8层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种利用原子层沉积技术在SERS基底上制备氧化物表面的方法，通过前驱体脉冲和氧源脉冲的交替通入，在SERS表面上发生化学吸附反应使其表面形成一层氧化物薄膜。本发明通过利用ALD技术在SERS基底上制备一层厚度小于5nm的、致密的、稳定的氧化物表面，从而改善原有SERS基底的表面不均一，性能不稳定，重现性差的缺点。 |
