基于正性光刻胶的镍阳模具制作方法
基本信息
| 申请号 | CN201510015397.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN104597719B | 公开（公告）日 | 2016-09-14 |
| 申请公布号 | CN104597719B | 申请公布日 | 2016-09-14 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 郭哲;刘祝凯;宋娇阳;许斌 | 申请（专利权）人 | 北京同方华光系统工程有限公司 |
| 代理机构 | 北京亿腾知识产权代理事务所 | 代理人 | 北京同方生物芯片技术有限公司;北京同方光盘股份有限公司 |
| 地址 | 101500 北京市密云县密云经济开发区水源路4号清华同方软件信息综合楼西二层202室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明实施例涉及一种基于正性光刻胶的镍阳模具制作方法，方法包括：在衬底的正面均匀旋涂正性光刻胶；利用目标图案的负性掩膜板对衬底的正性光刻胶进行曝光，显影后，得到图形化的光刻胶；在具有图形化的光刻胶的衬底上溅镀铬，形成均匀铬层图案；对铬层图案进行增粘剂六甲基二硅胺蒸镀，用以增强铬层图案与光刻胶的粘附性，并在铬层图案上均匀旋涂正性光刻胶；利用铬层图案对衬底上的铬层图案上的光刻胶进行曝光，显影后，得到铬层图案的光刻胶；对铬层图案的光刻胶进行表面金属化；通过微电铸对金属化后的铬层图案的光刻胶进行金属镍阳模电铸，得到镍阳模具。本申请镍阳模具的制作工艺简便，去胶方便，同时避免了镍阳模具边缘翘起。 |
