一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备
基本信息
| 申请号 | CN202021390084.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213377533U | 公开（公告）日 | 2021-06-08 |
| 申请公布号 | CN213377533U | 申请公布日 | 2021-06-08 |
| 分类号 | B05C5/02（2006.01）I;B05C13/02（2006.01）I;B05C9/14（2006.01）I;B05C11/10（2006.01）I;H01L31/18（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕; |
| 发明人 | 邓晓帆;姚宇 | 申请（专利权）人 | 苏州太阳井新能源有限公司 |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董建林 |
| 地址 | 215127江苏省苏州市吴中区甪直镇凌港路128号富民一区C栋4层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，包括轨道系统，所述轨道系统上设置有左右运动的基片载台，所述基片载台上面设置有待涂布基片，所述基片载台在宽度和/或长度方向尺寸小于所述待涂布基片的宽度和/或长度，所述基片载台上方设置有涂布模头，所述涂布模头连有供料系统，所述基片载台的左侧和右侧分别设置有用于放置所述待涂布基片的第一传动装置和取走所述待涂布基片的第二传动装置，所述涂布模头上或者所述基片载台与所述轨道系统之间设置有升降结构。本实用新型提供的一种用于晶硅太阳能电池上的涂布设备，能够保证整面涂布的同时避免待涂布基片外的原材料回流至基片上方从而造成厚度不均。 |
