一种蒸镀坩锅
基本信息
| 申请号 | CN202010514742.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113481472A | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN113481472A | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | C23C14/30（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王沛占;朱德盼;杨然翔;伍凯义;冯中山 | 申请（专利权）人 | 重庆康佳光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人 | 熊永强 |
| 地址 | 402760重庆市璧山区璧泉街道钨山路69号（1号厂房） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及化工仪器技术领域，具体涉及一种蒸镀坩锅，包括：坩埚主体，和位于所述坩埚主体内的升降装置；所述升降装置包括升降托盘和弹性器件，所述升降托盘滑动设置与所述坩埚主体内，且平行于所述坩埚主体底面，所述升降托盘边缘与所述坩埚主体内壁紧密配合；所述弹性器件一端与所述升降托盘连接，另一端与所述坩埚主体底部连接。本发明带升降装置的蒸镀坩埚，随着膜料的消耗，弹性器件推动升降托盘不断上升，保持膜料蒸发的部分始终保持在坩埚顶部，膜料基本被完全消耗，且整个蒸镀过程，电子枪不需调整偏转角度，功率不会增加。且本发明所述的坩埚，整个成膜过程膜料和基板距离保持不变，保证了成膜的均一性。 |
