一种纯铌腔内表面镀铌三锡薄膜的方法及真空炉
基本信息
| 申请号 | CN201911314280.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111074208B | 公开（公告）日 | 2021-04-06 |
| 申请公布号 | CN111074208B | 申请公布日 | 2021-04-06 |
| 分类号 | C23C14/16(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 刘佰奇;董超;沙鹏;翟纪元 | 申请（专利权）人 | 上海三井光中真空设备股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京君尚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 司立彬 |
| 地址 | 100049北京市石景山区100049 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种纯铌腔内表面镀铌三锡薄膜的方法及真空炉。本发明的真空炉特征在于，包括由外真空系统与内真空系统构成的双真空结构；其中，外真空系统内设有用于对内真空系统加热的加热器以及用于测量内真空系统设定区域温度的测温探头；所述内真空系统内设有一铌腔吊装装置，该旋转吊装装置用于连接待镀膜的铌腔和锡坩埚，并通过传动机构对铌腔进行循环转动。通过该真空炉，可在纯铌腔内镀一层纯净、完全覆盖、均匀分布的铌三锡薄膜，从而实现铌三锡在超导腔上的应用。 |
