一种铜铟镓硒镀膜设备的真空腔室
基本信息
| 申请号 | CN201910556740.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110344019A | 公开（公告）日 | 2019-10-18 |
| 申请公布号 | CN110344019A | 申请公布日 | 2019-10-18 |
| 分类号 | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/06;H01L31/18 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 袁正 | 申请（专利权）人 | 北京知虹科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518000 广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室（入驻深圳市前海商务秘书有限公司） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种铜铟镓硒镀膜设备的真空腔室，包括腔体、前门板和背板，所述腔体的前端和后端分别开设有第一开口和第二开口，腔体内设有隔板，隔板将腔体分隔为腔体上部和腔体下部，腔体上部安装有卷绕装置，腔体下部安装有加热装置和蒸发源，且腔体与真空系统连接；前门板可开合地设置在腔体的前端，背板可开合地设置在腔体的后端，前门板与腔体之间设有第一密封件，背板与腔体之间设有第二密封件。该真空腔室在工作状态下，能够满足高真空的工艺要求，在非工作状态下，所述真空腔室能够满足检修的工艺要求。 |
