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一种半导体制造用湿法清洗设备

基本信息

申请号 CN201921076056.X 申请日 -
公开（公告）号 CN211555831U 公开（公告）日 2020-09-22
申请公布号 CN211555831U 申请公布日 2020-09-22
分类号 H01L21/67(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 廖海涛 申请（专利权）人 江苏邑文微电子科技有限公司
代理机构 北京商专永信知识产权代理事务所（普通合伙） 代理人 江苏邑文微电子科技有限公司
地址 226000江苏省南通市如东县掘港街道金山路1号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种半导体制造用湿法清洗设备，涉及半导体技术领域，包括机体，所述机体的一侧固定连接有旋转盘控制按钮，所述机体的一侧固定连接有喷水洒控制按钮，所述机体的一侧固定连接有风扇控制按钮，所述机体的一侧固定连接有出水管，所述机体内壁的顶部固定连接有喷水洒。该半导体制造用湿法清洗设备，通过在机体内壁固定连接了立柱，以及旋转盘、放置架和活动卡扣之间的配合设置，极大的提高了清洗吹干的效果,解决了现有清洗吹干效果不理想的情况。该半导体制造用湿法清洗设备，通过在机体一侧固定连接了旋转盘控制按钮、喷水洒控制按钮、风扇控制按钮，解决了现有的清洗吹干过程比较繁琐的情况。