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一种机械化学研磨头中心构件

基本信息

申请号 CN202121035519.5 申请日 -
公开（公告）号 CN215092900U 公开（公告）日 2021-12-10
申请公布号 CN215092900U 申请公布日 2021-12-10
分类号 B24B37/12（2012.01）I;B24B37/34（2012.01）I 分类 磨削；抛光;
发明人 姚力军;潘杰;惠宏业;王学泽;宋召东 申请（专利权）人 上海江丰平芯电子科技有限公司
代理机构 北京远智汇知识产权代理有限公司 代理人 王岩
地址 201400上海市奉贤区奉浦工业区奉浦大道111号5楼2427室
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及一种机械化学研磨头中心构件，为空心圆环结构，上表面依次设置有第一凹槽、凸部和第四凹槽，沿径向以圆心为基准；第一凹槽内设置有第一凹孔、第二凹孔及第三凹孔；凸部表面设置有环形凹槽，环形凹槽上设置有第四凹孔和第五凹孔；第一凹孔和空心圆环结构的内侧壁之间设置有连接通道；第四凹孔和第二凹孔相连通；下表面设置依次有圆形凹槽和台阶面，台阶面上设置有第六凹孔、第七凹孔及第八凹孔；第三凹孔和第六凹孔相连通；第五凹孔和第七凹孔相连通；第八凹孔和空心圆环结构的外侧面相连通。设计新的气道以改善晶圆在研磨过程中受力情况，从而提升研磨过程中晶圆的平坦化程度，保证研磨后的晶圆具有良好的平面度。